Influencia de la potencia de depósito en la morfología de películas delgadas de óxidos de molibdeno depositadas por el método de sputtering.
DOI:
https://doi.org/10.29105/qh11.03-295Palabras clave:
óxidos de molibdeno, películas delgadas, sputtering, morfologíaResumen
En este trabajo se presenta la influencia de la potencia en el depósito por sputtering en la morfología de películas delgadas
de óxidos de molibdeno. Las películas fueron depositadas variando la potencia de depósito en 10, 20, 30, 40 y 50 W, en
donde los espesores de las películas fueron de 46, 72, 218, 222 y 226 nm respectivamente. Las películas de óxido de
molibdeno tienen una contribución de diferentes fases de los óxidos de molibdeno como MoO2 (tetragonal y
ortorrómbica), MoO3 (ortorrómbica) y el Mo30 (cúbica). La variación en la potencia de depósito permite el crecimiento
preferencial de ciertos planos cristalinos de los óxidos de molibdeno. Las películas a bajas potencias presentaron una
superficie homogénea con la aparición de algunos precipitados. Mientras que las películas depositadas con una potencia
mayor presentaron una morfología en forma de barras orientadas en diferentes direcciones. El índice de refracción de las
películas con una morfología de barras es mayor que el índice de refracción de las películas depositadas a una menor
potencia. Lo que confirma que el paso de la luz a través de la superficie es mucho mas lento para las películas depositadas
a potencias mayores de 30 W que para las películas depositadas a 10 y 20 W.
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