Infiltración electroforética de nanopartículas de plata en depósitos nanoestructurados de Ti02

Authors

  • Armando Rodríguez Universidad Autónoma de Nuevo León
  • Gabriela Amor Universidad Autónoma de Nuevo León
  • Manuel Ceballos Universidad Autónoma de Nuevo León
  • Israel López Universidad Autónoma de Nuevo León
  • Alejandro Vázquez Universidad Autónoma de Nuevo León

DOI:

https://doi.org/10.29105/qh4.4-34

Keywords:

deposición electroforética, nanopartículas, plata, dióxido de titanio

Abstract

En el presente trabajo se muestra la infiltración electroforética de nanopartículas de plata sobre depósitos de Ti02 los cuales fueron caracterizados por microscopía electrónica de barrido, espectrometría UV-Vis, dispersión dinámica de luz en el cual se observó que los depósitos de Ti02 que se obtuvieron tenían un espesor entre 7 y 11 µm, también que a mayor tiempo de deposición se formaban aglomerados de plata más grandes, se observó una infiltración en los depósitos aproximada de 3 µm, además en todos los tiempos se lograron observar partículas de plata en el sustrato de aluminio debido a que se infiltra por las grietas formadas en el depósito de Ti02.

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Author Biographies

Armando Rodríguez, Universidad Autónoma de Nuevo León

Laboratorio de Materiales I.

Gabriela Amor, Universidad Autónoma de Nuevo León

Laboratorio de Materiales I.

Manuel Ceballos, Universidad Autónoma de Nuevo León

Laboratorio de Materiales I.

Israel López, Universidad Autónoma de Nuevo León

Laboratorio de Materiales I.

Alejandro Vázquez, Universidad Autónoma de Nuevo León

Laboratorio de Materiales I.

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Published

2014-12-31

How to Cite

Rodríguez, A. ., Amor, G. ., Ceballos, . M. ., López, I. ., & Vázquez, . A. . (2014). Infiltración electroforética de nanopartículas de plata en depósitos nanoestructurados de Ti02 . Quimica Hoy, 4(4), 21–23. https://doi.org/10.29105/qh4.4-34